CVD氣相沉積爐為立式真空感應(yīng)加熱爐，它由爐體
、爐蓋、真空系統(tǒng)
、電氣系統(tǒng)
、加氣系統(tǒng)、和水冷系統(tǒng)等部分組成
。爐身采用水冷夾層結(jié)構(gòu)
。爐內(nèi)裝有感應(yīng)線(xiàn)圈，發(fā)熱體也是石墨材料制成石墨坩堝
。發(fā)熱體外圍是由碳?xì)纸M成的保溫裝置和由剛玉組成的隔熱絕緣裝置
。測(cè)溫元件采用熱電偶，半自動(dòng)/手動(dòng)控制爐溫
，采用智能型溫度表控溫
。
CVD氣相沉積爐技術(shù)特征：
CVD氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿(mǎn)足大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求
；
CVD氣相沉積爐采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫
，溫度均勻性好；
CVD氣相沉積爐采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室
，密封效果好
，抗污染能力強(qiáng)；
CVD氣相沉積爐采用多通道沉積氣路
，流場(chǎng)均勻
，無(wú)沉積死角，沉積效果好
；
CVD氣相沉積爐能有效處理生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的各種規(guī)格雜質(zhì)
。
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