很多朋友對(duì)于氣相沉積爐這種設(shè)備僅存在聽過它的名稱的環(huán)節(jié)
，對(duì)于氣相沉積爐并不了解，今天
，小編就帶著大家了解一下何為氣相沉積爐。
化學(xué)氣相沉積爐可用于以碳?xì)錃怏w為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積
。其中CVD氣相沉積爐是指高溫下的氣相反應(yīng)
，例如，金屬鹵化物
、有機(jī)金屬
、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸猓瑲溥€原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬
、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法
。這種技術(shù)開始是作為涂層的手段而開發(fā)的
，但目前，不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層
，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成
、半導(dǎo)體薄膜等
，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。
CVD氣相沉積爐的設(shè)備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶
、多晶
、晶須
、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層
，而且可以在粉體表面涂層
，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)
，作為一種新技術(shù)是大有前途的
。
相關(guān)標(biāo)簽：氣相沉積爐,
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