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新聞詳情

關于氣相沉積爐的知識

時間：2022/1/13 15:49:00 來源：http://m.xiala8.com/news754103.html

氣相沉積爐是利用了加熱離子體激勵或光輻射等方法，讓氣態(tài)的或者蒸汽狀態(tài)的化學物質(zhì)發(fā)生反應

，并以原子態(tài)沉積在適當?shù)奈恢玫囊r底上。從而形成了所需要的固態(tài)薄膜或是涂層的過程
。

 氣相沉積爐反應室的壓力

、氣體的流動速率
、晶片的溫度等反應中間起的作用都是沉積參數(shù)的變化范圍，所以考慮到沉積薄膜中的變數(shù)
、以及沉積速率決定著反應室的產(chǎn)出量
，反應生成的膜不僅會沉積在晶片上，也會沉積在反應室的其他部件上
，所以對反應室進行徹底清洗的程度也是重要。

氣相沉積爐是傳統(tǒng)的制備薄膜的技術

，它的原理就是利用氣態(tài)的先驅(qū)反應物
，通過原子、分子間的化學反應
，在晶片上形成薄膜
。氣相沉積能夠生產(chǎn)出具備高質(zhì)量高純度以及高強度等優(yōu)點的材料，因此在半導體行業(yè)很受歡迎
。



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