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氣相沉積爐的原理

時(shí)間:2021/6/18 10:32:00 來源:http://m.xiala8.com/news634176.html

氣相沉積爐是一種化工設(shè)備

,咸陽陶瓷研究設(shè)計(jì)院有限公司從事該窯爐生產(chǎn)多年
。化學(xué)氣相沉積(CVD)爐技術(shù)主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)
、在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的方法
。化學(xué)氣相淀積是近幾十年發(fā)展起來的制備無機(jī)材料的新技術(shù)
?div id="m50uktp" class="box-center"> ;瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體
、淀積各種單晶
、多晶或玻璃態(tài)無機(jī)薄膜材料
。這些材料可以是氧化物、硫化物
、氮化物
、碳化物,也可以是III-V
、II-IV
、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物,而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是應(yīng)用氣態(tài)物質(zhì)在固體上闡述化學(xué)反應(yīng)并產(chǎn)生固態(tài)沉積物的一種工藝

,它大致包含三步:

1)形成揮發(fā)性物質(zhì)

2)把上述物質(zhì)轉(zhuǎn)移至沉積區(qū)域

3)在固體上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)并產(chǎn)生固態(tài)物質(zhì)。


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